1. 工艺原理不同：蒸发镀膜是通过加热材料使其蒸发并沉积在基板上形成膜层，而溅射镀膜则是通过在高压气体中加电使材料离子化并沉积在基板上形成膜层。
2. 膜层性质不同：蒸发镀膜的膜层通常具有较高的致密性和均匀性，但是其粘附力和硬度较低；而溅射镀膜的膜层通常具有较高的粘附力和硬度，但是其致密性和均匀性较差。
3. 适用范围不同：蒸发镀膜适用于制备纯金属或合金的膜层，以及无机化合物的膜层；而溅射镀膜则适用于制备金属、合金、氧化物、氮化物和硅化物等复杂化合物的膜层。
1. 工艺原理不同：蒸发镀膜是通过加热材料使其蒸发并沉积在基板上形成膜层，而溅射镀膜则是通过在高压气体中加电使材料离子化并沉积在基板上形成膜层。
2. 膜层性质不同：蒸发镀膜的膜层通常具有较高的致密性和均匀性，但是其粘附力和硬度较低；而溅射镀膜的膜层通常具有较高的粘附力和硬度，但是其致密性和均匀性较差。
3. 适用范围不同：蒸发镀膜适用于制备纯金属或合金的膜层，以及无机化合物的膜层；而溅射镀膜则适用于制备金属、合金、氧化物、氮化物和硅化物等复杂化合物的膜层。
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